1樓：匿名使用者
a2:pvd(物理氣相沉積)技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對於pvd技術的三個分類，相應的真空鍍膜裝置也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。
近十多年來，真空離子鍍技術的發展是最快的，它已經成為了當代最先進的表面處理方法之一。我們通常所說的pvd鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的pvd鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。a3:
離子鍍膜（pvd鍍膜）技術，其原理是在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質電離，在電場的作用下，使被蒸發物質或其反應產物沉積在工件上。a4:pvd鍍膜與傳統的化學電鍍的相同點是，兩者都屬於表面處理的範疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。
兩者的不同點是：pvd鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的效能也更穩定；pvd鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更漂亮；pvd鍍膜不會產生有毒或有汙染的物質。q5:
請問pvd鍍膜能否代替化學電鍍？a5:在現階段，pvd鍍膜是不能取代化學電鍍的，並且除了在不鏽鋼材料表面可直接進行pvd鍍膜外，在很多其他材料（如鋅合金、銅、鐵等）的工件上進行pvd鍍膜前，都需要先對它們進行化學電鍍cr(鉻)。
pvd鍍膜主要應用在一些比較高檔的五金製品上，對那些**較低的五金製品通常也只是進行化學電鍍而不做pvd鍍膜。a6:採用pvd鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦係數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾效能。
a7:pvd膜層能直接鍍在不鏽鋼以及硬質合金上，對鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進行化學電鍍鉻，然後才適合鍍pvd。a8:
pvd鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無汙染的環保型表面處理方法，它能夠製備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜（tin[鈦金]、zrn〔鋯金〕、crn、tialn）和碳化物膜（tic、ti**），以及氧化物膜（如tio等）。a9:pvd鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.
1μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理效能和化學效能，並能夠維持工件尺寸基本不變，鍍後不須再加工。a11:
pvd鍍膜技術的應用主要分為兩大類：裝飾鍍和工具鍍。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾效能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命；這方面主要應用五金行業的各個領域，如門窗五金、鎖具、衛浴五金等行業。
工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦係數，提高工件的使用壽命；這方面主要應用在各種刀剪、車削刀具（如車刀、刨刀、銑刀、鑽頭等等）等產品中。a12:雖然使用pvd鍍膜技術能夠鍍出高品質的膜層，但是pvd鍍膜過程的成本其實並不高，它是一種價效比非常高的表面處理方式，所以近年來pvd鍍膜技術發展得非常快。
pvd鍍膜已經成為五金行業表面處理的發展方向。pvd是英文physicalvapordeposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。ncvm=non-conductivevacuummetallization:
直譯為不導電真空電鍍(金屬表面化),製程:不導電鍍膜.其實pvd是主要用物理和化學比較的角度說的,而ncvm是側重於鍍膜後產生的效果來表述的.
其實兩者是一樣的.pvd或者ncvm工藝流程是：底材－－uv底塗basecoating－－ncvm－－（中塗）middlecoating－－面塗topcoating現在ncvm段經常有異常發生，uv底塗後外觀一致，但是ncvm後卻出現明顯色差，而且顏色為三中。
七彩的現象確實是鍍膜所致，但是用不同廠家的面漆，以及噴塗不同厚度的面漆，也會產生七彩紋現象七彩紋我們也叫他牛頓環，不僅僅在ncvm上常見，其實在許多高光噴塗的表面也會有的，只是不明顯被忽略掉而已。對已ncvm產品，由於高亮的金屬光澤，對於光的反射率較高，使得七彩紋被凸現出來了。尤其表面有油汙時，七彩紋會更加明顯。
這種現象在很多pvd工廠都很常見。ncvm的色差問題造成的原因很多，如果是批量出現，與電鍍的關係較大。具體的原因有很多：
一、底塗後產品的放置時間越長越容易色差，電鍍好的成品（尤其pvd錫的時候）長時間也不噴面漆，也會造成這個問題。
二、電度的電流和電壓、自轉，蒸發時間，電鍍材料的多少和放置都會有影響，還有真空度的高低也會有影響。
三、電鍍車間的空氣溼度會影響到色差，工件的大小和形狀也會影響。看你的問題，應該是電鍍方面的因素較多。
四、底漆未乾透，這個也是早成七彩的重要原因。
五、電鍍材料的純度也有影響。
六、底材的油汙解決方法，一個排除影響因素，關鍵是找出色差出現的規律，然後判斷出原因所在。具體問題具體分析。真空鍍膜確實有提高硬度，增強耐磨性的作用，厚度估計在0.
3-5um左右，原理與鍍銅鍍金差不多，但附著力強，不易刮損吧.
什麼是pvd電鍍
2樓：
vd簡介
pvd是英文physical vapor deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
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pvd技術的發展
pvd技術出現於二十世紀七十年代末，製備的薄膜具有高硬度、低摩擦係數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高效能、高可靠性塗層裝置的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與 cvd工藝相比，pvd工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密複雜刀具的塗層； pvd工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。
目前pvd塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
pvd技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的tin發展為tic、ti**、zrn、crn、mos2、tialn、tial**、tin-aln、**x、dlc和ta－c等多元複合塗層。
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塗層的pvd技術
增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜效能更加優異。
過濾陰極弧：過濾陰極電弧(fca )配有高效的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的巨集觀粒子、離子團過濾乾淨，經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%，並且可以過濾掉大顆粒， 因此製備的薄膜非常緻密和平整光滑，具有抗腐蝕效能好，與機體的結合力很強。
磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
離子束dlc：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。
碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得dlc膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，並可將工藝過程中的顆料汙染所帶來的缺陷降至最小。
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補充物理氣向沉積技術 * pvd 介紹 物理氣相沉積具有金屬汽化的特點，
與不同的氣體發應形成一種薄膜塗層。今天所使用的大多數 pvd 方法是電弧和濺射沉積塗層。這兩種過程需要在高度真空條件下進行。
ionbond 陰極電弧 pvd 塗層技術在 20 世紀 70 年代後期由前蘇聯發明，如今，絕大多數的刀模具塗層使用電弧沉積技術。
工藝溫度
典型的 pvd 塗層加工溫度在 250 ℃— 450 ℃之間，但在有些情況下依據應用領域和塗層的質量， pvd 塗層溫度可低於 70 ℃或高於 600 ℃進行塗層。
塗層適用的典型零件
pvd 適合對絕大多數刀具模具和部件進行沉積塗層，應用領域包括刀具和成型模具，耐磨部件，醫療裝置和裝飾產品。
材料包括鋼質，硬質合金和經電鍍的塑料。
典型塗層型別
塗層型別有 tin, altin,tialn,crn,cr**,ti** 和 zrn, 複合塗層包括 tialyn 或 w — c ： h/dlc
塗層厚度一般 2~5um ，但在有些情況下，塗層薄至 0.5um , 厚至 15um裝載容量。
塗層種類和厚度決定工藝時間，一般工藝時間為 3~6 小時。
加工過程優點
適合多種材質，塗層多樣化
減少工藝時間，提高生產率
較低的塗層溫度，零件尺寸變形小
對工藝環境無汙染
3樓：盜王之盜
pvd電鍍是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
pvd技術出現於二十世紀七十年代末，製備的薄膜具有高硬度、低摩擦係數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高效能、高可靠性塗層裝置的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與 cvd工藝相比，pvd工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密複雜刀具的塗層； pvd工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。
目前pvd塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
pvd技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的tin發展為tic、ti**、zrn、crn、mos2、tialn、tial**、tin-aln、**x、dlc和ta－c等多元複合塗層。
增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜效能更加優異。
過濾陰極弧：過濾陰極電弧(fca )配有高效的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的巨集觀粒子、離子團過濾乾淨，經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%，並且可以過濾掉大顆粒， 因此製備的薄膜非常緻密和平整光滑，具有抗腐蝕效能好，與機體的結合力很強。
磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
離子束dlc：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。
碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得dlc膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，並可將工藝過程中的顆料汙染所帶來的缺陷降至最小。
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