1樓：匿名使用者
同學這個中學階段不需要啊知道原因的，只要知道鹵素能破壞氧化膜就ok了。
下面給你稍微介紹下吧，可以參考增加下 課外知識：
cl-對鋁表面氧化膜破壞的原理：
我們已知，al2o3是立方面心密堆積構型的離子晶體（氧化鋁有多種變體，最主要的有α- al2o3和γ- al2o3，其中γ- al2o3是亞穩定的，溶於酸、鹼並具強的吸附性），在鋁與鹼溶液的反應中，表面al2o3與與鹼（oh-）的作用本質上是一個親核取代的過程：
al2o3 + 2 oh- = 2alo2- + h2o或： al2o3 + 2 oh- +3 h2o = 2〔al（oh）4〕-
最終使鋁與水反應： 2al + 2naoh + 6h2o = 2 naal（oh）4 + 3h2
2樓：匿名使用者
含氯離子能破壞鋁的氧化膜的只有鹽酸了，而且還不是靠氯離子是靠氫離子破壞鋁的氧化膜。 一般洗鋁的氧化膜都是靠naoh溶液的不用酸。 你問的有點問題
為什麼氯離子會破壞鋁表面的氧化膜？
3樓：點塵無聲
下面給你稍微介紹下吧,課外知識：
cl-對鋁表面氧化膜破壞的原理：
我們已知,al2o3是立方面心密堆積構型的離子晶體（氧化鋁有多種變體,最主要的有α- al2o3和γ- al2o3,其中γ- al2o3是亞穩定的,溶於酸、鹼並具強的吸附性）,在鋁與鹼溶液的反應中,表面al2o3與與鹼（oh-）的作用本質上是一個親核取代的過程：
al2o3 + 2 oh- = 2alo2- + h2o
或：al2o3 + 2 oh- +3 h2o = 2〔al（oh）4〕-
最終使鋁與水反應：2al + 2naoh + 6h2o = 2 naal（oh）4 + 3h2￪
鋁與氯鹽溶液反應,陰離子與鋁表面氧化膜作用也與oh-類似,陰離子作為親核試劑進攻al2o3晶體中高電荷、小半徑的al3+,削弱al3+與o2-之間的靜電作用,最終使這種陰離子取代o2-與al3+結合為配位絡離子而溶解,同時這種絡離子又阻隔al3+與o2-間的接觸,促使o2-在溶液中與水作用轉化為oh-並使氧化膜出現裂縫,在金屬離子以及水分子、h+穿透孔隙與鋁反應的協同作用下,使鋁表面氧化膜溶解.
那麼,為什麼滷離子特別是cl- 、 br-離子破壞鋁表面氧化膜有較大速率,而so42-、no3-反而會抑制氧化膜的破壞呢?可以這麼認為,溶液中陰離子與鋁表面氧化膜作用,是這種陰離子與al2o3晶體中o2-爭奪al3+的競爭反應,要能有效地進攻al3+並削弱al3+與o2-的化學鍵,這種陰離子必須有與氧離子相抗衡的與鋁離子結合的能力.x-相對so42-、no3-具有較小的離子半徑和較大的電子密度,在進攻al3+時可取得一定優勢,同時,它們能與al3+生成有較大熱力學穩定性的〔alx4〕-（如f- 形成〔alf6〕3-絡離子）,所以,滷離子破壞鋁表面氧化膜有較大能力.
滷離子半徑大小順序為：f- ﹤ cl- ﹤br- ﹤i- .離子的電荷密度為 f- ﹥ cl- ﹥br- ﹥i-,則滷離子進攻al3+,破壞鋁表面氧化膜的能力也基本為f- ﹥ cl- ﹥br- ﹥i-,（實驗中氟離子破壞氧化膜的能力小於氯離子,這可能與f-在溶液中水解減小了溶液中f-濃度以及alf3、cuf2的難溶性等多種因素有關.
總的來說：氯離子很容易被吸附在氧化膜上,把氧化膜中的氧離子取代出來.
4樓：卷真盛亭
氯離子會與水中的氫離子結合形成hcl，而hcl會與鋁的氧化物反應生成相應的鹽和水
氯離子破壞鋁表面的氧化膜，為什麼
5樓：沁兒小姐
同學這個中學階段不需要啊知道原因的，只要知道鹵素能破壞氧化膜就ok了。
下面給你稍微介紹下吧，可以參考增加下 課外知識：
cl-對鋁表面氧化膜破壞的原理：
我們已知，al2o3是立方面心密堆積構型的離子晶體（氧化鋁有多種變體，最主要的有α- al2o3和γ- al2o3，其中γ- al2o3是亞穩定的，溶於酸、鹼並具強的吸附性），在鋁與鹼溶液的反應中，表面al2o3與與鹼（oh-）的作用本質上是一個親核取代的過程：
al2o3 + 2 oh- = 2alo2- + h2o
或： al2o3 + 2 oh- +3 h2o = 2〔al（oh）4〕-
最終使鋁與水反應： 2al + 2naoh + 6h2o = 2 naal（oh）4 + 3h2￪
鋁與氯鹽溶液反應，陰離子與鋁表面氧化膜作用也與oh-類似，陰離子作為親核試劑進攻al2o3晶體中高電荷、小半徑的al3+，削弱al3+與o2-之間的靜電作用，最終使這種陰離子取代o2-與al3+結合為配位絡離子而溶解，同時這種絡離子又阻隔al3+與o2-間的接觸，促使o2-在溶液中與水作用轉化為oh-並使氧化膜出現裂縫，在金屬離子以及水分子、h+穿透孔隙與鋁反應的協同作用下，使鋁表面氧化膜溶解。
那麼，為什麼滷離子特別是cl- 、 br-離子破壞鋁表面氧化膜有較大速率，而so42-、no3-反而會抑制氧化膜的破壞呢？可以這麼認為，溶液中陰離子與鋁表面氧化膜作用，是這種陰離子與al2o3晶體中o2-爭奪al3+的競爭反應，要能有效地進攻al3+並削弱al3+與o2-的化學鍵，這種陰離子必須有與氧離子相抗衡的與鋁離子結合的能力。x-相對so42-、no3-具有較小的離子半徑和較大的電子密度，在進攻al3+時可取得一定優勢，同時，它們能與al3+生成有較大熱力學穩定性的〔alx4〕-（如f- 形成〔alf6〕3-絡離子），所以，滷離子破壞鋁表面氧化膜有較大能力。
滷離子半徑大小順序為：f- ﹤ cl- ﹤br- ﹤i- 。離子的電荷密度為 f- ﹥ cl- ﹥br- ﹥i-，則滷離子進攻al3+，破壞鋁表面氧化膜的能力也基本為f- ﹥ cl- ﹥br- ﹥i-，（實驗中氟離子破壞氧化膜的能力小於氯離子，這可能與f-在溶液中水解減小了溶液中f-濃度以及alf3、cuf2的難溶性等多種因素有關。
總的來說：氯離子很容易被吸附在氧化膜上，把氧化膜中的氧離子取代出來。
滿意請採納。
6樓：匿名使用者
高中貌似不需要知道為什麼吧：
可以理解為氯離子容易被吸附在氧化膜上，把氧化膜中的氧離子取代出來，破壞了緻密的氧化鋁薄膜。望採納
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