1樓：江西國材科技****
化學氣相蒸鍍（chemical vapor deposition，cvd）是一種薄膜製備技術，利用化學反應在基底表面沉積薄膜。cvd通過在反應室中提供適當的反應氣體，賣坦茄使其在適當的溫度和壓力下發生化學反應，並形成薄膜。
cvd的主要優點包括：
1. 高成膜速率：cvd能夠以較高的速率沉積薄膜，使其在短時間內形成。
2. 成膜均勻性：cvd技術可以在大面積基底上實現較好的均勻性，使得薄膜在整個基底表面上具有一致的厚度和性質。
3. 控制薄膜成分：通過調節反應氣體的組成和流量，可以精確控制薄膜的成分，以滿足特定應用的需求。
4. 三維結構沉積能力：cvd可用於在複雜的三維結構上沉積薄膜，如微細結構、孔洞和奈米顆粒等。
5. 多功能性：cvd可用於製備多種型別的薄膜，包括金信伍屬、氧化物、氮化物、碳化物等，滿足不同應用的要求。
然而，cvd也存在一些缺點，包括：
1. 高裝置成本：cvd裝置相對較昂貴，需要複雜的裝置和精密的控制系統。
2. 高溫需求：許多cvd過程需要高溫操作，這對於某些材料和基中察底可能不可行。
3. 氣氛處理要求：cvd過程通常需要在惰性氣氛或氣氛控制下進行，需要處理和控制反應氣體的**和廢氣處理。
4. 廢氣處理：由於cvd過程產生大量廢氣，因此需要適當的廢氣處理系統來處理和排放廢氣。
2樓：北京中諾新材
化學氣相蒸鍍乃使用一種或多種氣體，在一加熱的固體基材上發生化學反應，並鍍上一層固態薄膜。
優點： (1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如熱噴覆；
2)沉積速率快，大氣cvd可以達到1μm/min；
3)與pvd比較的話。化學量論組成或合金的鍍隱枯膜較容易達成；
4)鍍膜的成份多樣化，如金屬、非金屬、半導體、光電材料、鑽旁脊石薄膜；
5)可以在複雜形狀的基材鍍膜，甚至滲入多孔的陶瓷；
6)厚度的均勻性良好，低壓cvd甚至灶啟洞可以同時鍍數十晶元。
缺點： (1)熱力學及化學反應機制不易瞭解或不甚瞭解；
2)需要在高溫下進行，有些基材不能承受，甚至和鍍膜產生作用；
3)反應氣體可能具腐蝕性、毒性或**性，處理時需小心；
4)反應生成物可能殘餘在鍍膜上，成為雜質；
5)基材的遮蔽很難。
何為相謀是什麼意思
相謀是志同道合的意思，那何為相謀大概就是在做一個疑問，什麼是志向相投呢？何謂相謀是不相同的意思。什麼是文學啊 文學是以語言文字為工具，比較形象化地反映客觀現實 表現作家心靈世界的藝術，包括詩歌 散文 劇本 寓言 童話等體裁，是文學的重要表現形式，以不同的形式即體裁，表現內心情感，再現一定時期和一定地...
什麼是化學中的水相和有機相,化學中的相是什麼意義
水相就是水溶液 有機相就是有機溶液 比如在液液萃取中,通常用水和一種與水不相容的有機試劑,比如丙酮之類的.如果水中的溶質在有機相里溶解度更大,它就會到有機相里去.這時分離有機相和水相,就可以提取這種溶質了.水和有機物不互溶 如水和苯 水為水相 苯為有機相 化學中的相是什麼意義 相變就是物體由一種狀態...
氣相色譜2，什麼是調整保留值,氣相色譜法中什麼是保留時間
同色譜柱同載氣流量同析溫度都導致同保留間般確定組份保留間通相同析條件進標準 已知 檢視相應保留間確定 色譜類儀器定性強項離才強項氣相色譜氣相色譜與質譜聯用作色質聯譜則解決其定效能力強問題 採用tcd fid ecd fpd檢測器則要依靠保留值定性比保留間 調整保留間 保留體積 相保留體積 及相保留值...